在超高真空 (UHV) 環境中沉積薄膜是我們的業務。我們設計和製造用於分子束外延 (MBE)、特高壓磁控濺射和脈衝激光沉積的先進薄膜沉積系統。自1989 年公司成立以來，DCA 已在全球安裝了 200 多個特高壓系統。
我們是一家位於芬蘭西南角圖爾庫的芬蘭公司。我們為客戶提供高品質的芬蘭設計和工藝。我們業務的很大一部分一直在構建複雜的定制設計沉積系統。我們利用我們的定制設計背景來製造我們的標準系統。我們的設計靈活性受到客戶的重視。我們的許多標準系統已開始作為客戶特定沉積工藝的解決方案。
DCA是氧化物MBE的世界領先者。自 1993 年以來，我們系統地開發了我們的氧化物技術、抗氧基板加熱和抗氧源。因此，許多領先的實驗室都選擇了 DCA 氧化物技術。我們的化合物半導體 MBE 系統在全球範圍內用於研發和外延片生產。DCA 不斷為先進的化合物半導體外延開發新的源和其他 MBE 組件。
我們的標準系統範圍從 10 mm x 10 mm 樣品尺寸的小型研發系統到多晶片 4 x 4" 和 200 mm MBE 和濺射系統。DCA 率先推出了真正的 UHV 集群工具，該工具帶有用於自動晶圓處理的 UHV 機器人。